設備名稱    

雙面對準曝光機(Double Aligner)

廠牌型號

Union PEM-800  

 

 

服務項目

（用途說明）

紫外光曝光機用於光蝕刻製程中之光罩圖形轉移  

重要規格

1.  雙面CCD camera光學對準

2.  除對應Si wafer, GaAs等三五族晶片外，需亦可對應陶瓷基

     板、SUS基板等不透光基板。

3.  光罩夾具5” ，破片及四吋晶圓夾具各一組。

4.  單面曝光對位精度1mm以內，兩面Pattern相對位置精度± 

      1.5mm

5.  對物間隔  15-90 mm    

6.  UV光能量密度(Intensity): At 405 nm: 40mW/cm2 (含)以上，

     At 365 nm: 20Mw/ cm2 (含)以上

7.  曝光方式 :近接式、接觸式、N2 blow Contact  

圖片

   標準作業手冊

(SOP)

  曝光機標準作業手冊