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負責人:張宇睿 |
| 設備名稱:桌上型球磨機 (天統 MUBM-340 ) | |
機台性能:尺寸:62W x 32D x 15H (cm) 馬力:40W 回轉數:10~1500 使用長度:40cm 機台敘述:配合PE塑膠罐及球磨珠使物料磨成細粉 |
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負責人:張宇睿 |
| 設備名稱:高溫爐 (天統 F-15-5) | |
機台性能:最高溫度 1450℃,內容積 5.25L 機台敘述:用於高溫化學反應實驗 |
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負責人:張宇睿 |
| 設備名稱:高溫爐 (NABERTHERM LT5/13/P330) | |
機台性能:最高溫度 1300℃, 內容積 5L 機台敘述:用於高溫化學反應實驗
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負責人:鄧仲崴 |
| 設備名稱:快速熱退火系統 (ULVAC MILA3000-P-N) | |
機台性能:最高溫度 1200℃, 升溫速率 50℃/sec 機台敘述:用於恢復晶體結構和消除缺陷並活化摻雜物 |
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負責人:杜東翰 |
| 設備名稱:電磁加熱攪拌器 (今日 pc-4200) | |
機台性能:溫度(℃):50~550,轉速(rpm):60-1150 版面尺寸(cm):12.7×17.8 |
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| 機台敘述:用於長時間的攪拌和加溫實驗 | |
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負責人:張宇睿 |
| 設備名稱:烘箱 (天統 TEN-72) | |
機台性能:內部尺寸(mm)450Wx400Dx400H, 內容積 72L 外部尺寸(mm)585Wx550Dx850H 機台敘述:用於烘乾實驗材料及器材 |
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負責人:杜東翰 |
| 設備名稱:超音波洗淨器 (大邁 D150 DELTA) | |
| 機台性能:水槽容積 4.5, 振盪頻率 43KHz, 洗淨出力 150W 機台敘述:助於加快實驗反應或用於清洗實驗器材 | |
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負責人:張宇睿 |
| 設備名稱:精密天平 (SARTORIUS TE313S) | |
| 機台性能:可讀數 0.001(g), 最大稱量 310(g) ,
反應時間(≦s) 2.5 機台敘述:量測實驗所需的材料重量
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負責人:張宇睿 |
| 設備名稱:壓片機 ( Carver 3850) | |
| 機台性能:最大壓力 12噸(24000磅),平板大(in)6"x6"
沖程大小(in) 5.1,底盤尺寸(in)12"x16" 機台敘述:對元件或實驗化學物品施加特定壓力 | |
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負責人:杜東翰 |
| 設備名稱:玻璃切割機 | |
| 機台性能:
(1)90度定位+刻度標示 (2) 0.5~2mm厚之玻璃均可使用 (3)以微測頭調整刀輪高度,精度在0.01mm以內 (4)裁切範圍:320mm*450mm(以內) 機台敘述:可切割玻璃基板等 |
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負責人:張宇睿 |
| 設備名稱:內校型微量天平 (SARTORIUS BSA224S-CW) | |
機台性能:最大秤量220(g),最小讀值 0.1(mg),反應時間2.5s 機台敘述:量測實驗所需的材料重量 |
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負責人:李至麟 設備名稱:濺鍍機(Sputter) 機台敘述:製程於元件薄膜，可鍍金屬物質或絕緣體材料 |
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負責人:李至麟 設備名稱:熱蒸鍍機(Thermal coater) 機台敘述:製程於元件金屬薄膜 |
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負責人:鄧仲崴 設備名稱:化學氣相沉積（Chemical Vapor Deposition，CVD） 機台敘述:利用化學反應將反應物(通常是氣體)生成固態的生成物，並在晶片表面沉積薄膜 |
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負責人:翁識傑 |
| 設備名稱:離心機 (Centrifuge CN-2200) | |
| 機台性能: (1)數位式轉速及時間顯示 (2) 6組 Rotor 型號：RA-5006 (3)轉速：1000~8000；最大離心力：6660； 最大容量：300 ml；定時器：99:59 重量：10 kg；尺寸：290*320*250 電源：AC 110V/220V,50/60 Hz 機台敘述:可分離溶液中的固態物質 | |